氢氟酸

英文名：Hydrofluoric Acid

别名：无水氢氟酸; 无水氟化氢; 氟化氢; 氢氟酸

分子式：HF

CAS No.：7664-39-3

分子量：20.01

熔点：-35℃

沸点：19.5°C at 760 mmHg

水溶性：soluble

蒸汽压：922mmHg at 25°C

外观：无色透明至淡黄色冒烟

 

用途：作强酸性腐蚀剂，作分析试剂，用于刻蚀玻璃、酸洗金属等；用于原子能工业、制元素氟、氟化物，也可作催化剂、氟化剂等；用于有机或无机氟化物的制造，也用于不锈钢、非铁金属酸洗、玻璃器皿磨砂和酸洗、磨砂灯泡的处理等

性质：氢氟酸是氟化氢气体的水溶液，清澈，无色、发烟的腐蚀性液体，有剧烈刺激性气味。氢氟酸是一种弱酸，具有极强的腐蚀性，能强烈地腐蚀金属、玻璃和含硅的物体。如吸入蒸气或接触皮肤会造成难以治愈的灼伤。实验室一般用萤石（主要成分为氟化钙）和浓硫酸来制取，需要密封在塑料瓶中，并保存于阴凉处。

应用领域：由于氢氟酸溶解氧化物的能力，它在铝和铀的提纯中起着重要作用。氢氟酸也用来蚀刻玻璃，可以雕刻图案、标注刻度和文字；半导体工业使用它来除去硅表面的氧化物，在炼油厂中它可以用作异丁烷和正丁烯的烷基化反应的催化剂，除去不锈钢表面的含氧杂质的“浸酸”过程中也会用到氢氟酸。氢氟酸也用于多种含氟有机物的合成，比如Teflon（聚四氟乙烯）还有氟利昂一类的制冷剂。

 

危害防护

无燃爆危险：本品不燃，具强腐蚀性、强刺激性，可致人体灼伤。

危险特性：本品不燃，但能与大多数金属反应，生成氢气而引起爆炸。遇H发泡剂立即燃烧。腐蚀性极强。

皮肤接触：立即脱去污染的衣着，用大量流动清水冲洗至少15分钟并就医。

眼睛接触：立即提起眼睑，用大量流动清水或生理盐水彻底冲洗至少15分钟。就医。

 

氢氟酸　GB/T620-2011

名称	优级纯	分析纯	化学纯
氢氟酸（HF）含量%　≥	40.0	40.0	40.0
灼烧残渣（以硫酸盐计）%　≤	0.001	0.002	0.01
氯化物（CL）%　≤	0.0005	0.001	0.005
硫酸盐和亚硫酸盐（以SO4计）%　≤	0.001	0.002	0.005
磷酸盐（PO4）%　≤	0.0001	0.0002	0.005
氟硅酸盐（SiF6) % ≤	0.02	0.04	0.06
铁（Fe)　%　≤	0.00005	0.0001	0.0005
重金属（以Pb计）%　≤	0.0001	0.0005	0.001

 

 

工业氢氟酸GB7744－2008

项 目	指 标
	I 类			II 类
	HF-40	HF-50	HF-70	HF-30	HF-40	HF-50	HF-55
氟化氢含量%≥	40.0	50.0	70.0	30.0	40.0	50.0	55.0
氟硅酸含量，%≤	0.05	0.05	0.05	2.5	5.0	8.0	10.0
不挥发酸（以H2SO4计）含量，%≤	0.05	0.08	0.08	1.0	1.0	2.0	2.0
灼烧残渣,%≤	0.05	0.05	0.05	-	-	-	-

 

氟化氢在工业上用途极为广泛，所有含氟的塑料、橡胶、药物、制剂、农药等等，都需要氟化氢。在开采矿藏时，氟化氢也是关键的参与者，特别是提取稀土和一些放射性元素时。

此外，氟化氢作为腐蚀剂，在玻璃工业、钢铁产品、原子能工业还有半导体工业上，都可用于酸洗、腐蚀、灰分处理等用途。此次，日本和韩国所纠葛的高纯度氟化氢，正是用于晶圆、电路和芯片的酸洗和腐蚀，在半导体制造领域必不可少。

氟化氢主要用来切割半导体基板，在半导体产品制造的600多道工序中，使用氟化氢的次数有时多达十多次。

 

 

PIC: Pepper Wang
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